重磅！国产手机终于迎来好消息！

发布时间：2020-09-21 22:20:39来源：找靓机科技

这两年最能被大家关注的，应该就是华为的受阻了，自从华为在5G通讯领域不断取得成就，美国就以所谓的“安全”问题，多次向华为进行制裁行为。先抛开华为产品如何不谈，这一做法确实让人气愤。

华为现在最大的困难，就是无法再继续生产麒麟芯片了。9月15日已经到期，任何采用美国技术的供应商或技术公司，在未经允许的情况下不能以任何形式卖给华为和它的子公司，无论是产品、设备还是组件。

所以目前来看，华为已经不可能再继续让别人帮忙代工生产芯片，这项禁令甚至还表示，华为连联发科、高通骁龙都不能使用。

当然，咱们看到的只是华为，若是未来也有国产厂商发展的如日中天呢？众所周知，国产阵营还有小米做过芯片，虽然没有激起多大的波澜，但如果未来某一天也像华为一样优秀呢？这还没算即将进入芯片领域的OPPO。

所以华为只是表面，我们真正在意的，是它这个做法。未来我们国产究竟要怎样，才能走出这种极有可能再次出现的困境？

最大的关键点，就是光刻机。

这里先进行一点科普，根据我所能查询到的资料显示，早在1977年，我国最早的光刻机JKG-3型光刻机就试制成功，是由上海光学机械厂成功制造的。不过这台光刻机相比美国的同代产品，技术上有着20多年的差距。

而在后来的几年，国产光刻机也在进行着不断的更新发展，做的头头是道，甚至还意识到分步投影光刻技术的显著优点，但始终受限于技术，很难实现。总结的话：五六十年代开了个好头，六七十年代甚至做的还不错。

不过到了80年代，ASML诞生了。听说过的人都知道，ASML是目前行业最为顶端的半导体制造商之一，任何高端芯片的制造都离不开它的光刻机。而我们虽然也在不断进步，但始终达不到它的技术程度。

到了90年代，咱们的光刻机就一直被卡在193纳米长达20年，好在2002年被台积电的林本坚博士攻破，提出了浸入式193纳米方案，获得成功。

不过依然受限于技术，咱们还是落后了ASML20多年，要知道，这个时候的ASML已经开始进行EUV光刻机的研发了，并且于2010年研发出第一台EUV原型机。

跟商量好了似的，这个时期的半导体产业开始了大力发展，中国芯片也开始在2016年量产90纳米、110纳米和280纳米三种光刻机。

直到现在，咱们能真正实现量产的最先进光刻机的制程，也还是90纳米。与同期的ASML相比，咱们的差距还是非常大。

不过，现在好消息终于来了，中科院院长已经在近日正式宣布：面临美国对中国高科技产业的打压，将美国“卡脖子”的清单变成科研任务清单进行布局，比如航空轮胎、轴承钢、光刻机和一些关键技术、关键原材料等。

没错，在经历了这么多之后，咱们的科研人员终于要对光刻机出手了，即使还需要一段时间来继续沉淀，但我相信在中国科研人员的不断努力下，咱们距离脱离美国技术的那一天，肯定不会远了。

而到时候不止华为，谁想再压我们国产厂商一头，也要看看实力再说。要知道：从泥沼爬出来的才是圣人，烧不死的鸟才是凤凰。加油！

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